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フォトマスク 貸出可

田邉 功／共著 -- 東京電機大学出版局 -- 2011.4 -- 549.7

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県立 書庫 /549/7/61 1107659387 一般 　 在架 iLisvirtual

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タイトルフォトマスク
タイトルカナフォトマスク
副書名電子部品製造の基幹技術
副書名カナデンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
並列タイトルPhotomask Technology
著者 田邉 功 ／共著, 竹花 洋一 ／共著, 法元 盛久 ／共著  
著者カナタナベ イサオ,タケハナ ヨウイチ,ホウガ モリヒサ
出版地東京
出版者東京電機大学出版局
出版年2011.4
ページ数323p
大きさ21cm
版及び書誌的来歴注記「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題
内容紹介マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
一般件名リソグラフィー
NDC分類(8版) 549.7
ISBN13978-4-501-32820-7
本文の言語jpn
書誌番号1109237339

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