上田 充/監修 -- シーエムシー出版 -- 2015.11 -- 549.7

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態
県立 書庫 /549/7/64 1108337171 一般   在架 iLisvirtual

資料詳細

タイトルフォトレジスト材料開発の新展開
タイトルカナフォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
並列タイトルNew Trends of Photoresists
著者 上田 充 /監修  
著者カナウエダ ミツル
特殊な版表示普及版
出版地東京
出版者シーエムシー出版
出版年2015.11
ページ数7,317p
大きさ26cm
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
シリーズ名カナエレクトロニクス シリーズ
内容紹介現在多方面で使用されている、また将来用いられる微細加工用レジスト材料。最前線で活躍している研究者たちが、その最新の技術動向や問題点、将来の展望について詳述する。
一般件名リソグラフィー
一般件名感光性樹脂
NDC分類(8版) 549.7
ISBN13978-4-7813-1039-8
本文の言語jpn
書誌番号1111202280

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